实验室以多元兼容集成制造工艺及其在高性能微纳器件领域应用的创新研究为特色，在组内形成了一套完整的涵盖微纳图形化（图形尺度百纳米至百微米级）、薄膜沉积、干法/湿法刻蚀、电镀等前段工艺，以及含切割、抛光、机械加工等综合后端工艺的全体系微纳集成制造工艺线，并在力学、温度、光学、生物、化学微纳传感器和微系统等领域开展了大量的创新应用。组内的超净间具备光刻、薄膜沉积、干法刻蚀设备。除超净间外，团队实验室还包括多个独立的湿法实验室、通用实验室、机械加工/装配实验室、测试实验室。主要设备有：
MA-6 光刻机
离子束刻蚀/沉积
电化学工作站
SU-8切片机
光学轮廓仪
微波探针台
台阶仪
结合力强度测试仪
永磁合金电镀
多靶超真空磁控溅射机
超临界干燥
其他组内仪器设备：
RIE刻蚀机，CMP抛光机，高速相机，蔡司显微镜，三维光刻机；湿法微加工工作站，微结构电镀工作站多台。
